首次工业品外观设计五局合作论坛在美举行

　　12月2日至4日，首次工业品外观设计五局合作论坛（ID5）在美国举行。

　　据介绍，工业品外观设计五局合作论坛（ID5）是由中国国家知识产权局、美国专利商标局、欧洲内部市场协调局、日本特许厅、韩国特许厅五大知识产权机构开展的机制性合作，是继发明领域五局合作（IP5）以及商标领域五局合作（TM5）之后知识产权领域新的合作机制，旨在通过增进ID5五局间的相互理解和深入合作进一步改进和提升外观设计体系的效率、质量和用户友好性。首次ID5论坛签署的联合声明，确立了外观设计五局合作的目标和机制。论坛上，五大局分享了各自国家外观设计领域的实践，并针对未来可能开展的合作项目进行了讨论。论坛还设置了与产业界交流环节，通报了此次论坛的成果，听取了产业界对未来ID5合作的意见和建议。据悉，2016年外观设计五局合作论坛将由中国国家知识产权局轮值主办。